文献

J-GLOBAL ID：200902221810699580   整理番号：03A0699646

ポリミイド薄膜の熱光学定数とその異方性 II Si基板上における偏光方向依存性の解析

著者 (2件)： 照井貴陽 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集  (Polymer Preprints, Japan)
巻： 52  号： 12  ページ： 3420-3421  発行年： 2003年09月10日 
JST資料番号： Z0703B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *芳香族ポリイミド ,...

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0699646&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Z0703B") }}

分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 薄膜 ,  光学定数 ,  異方性 ,  Si基板 ,  偏光 ,  方向依存性 ,  解析