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J-GLOBAL ID：200902224228376806   整理番号：09A0102902

真空紫外光酸化を用いた高分子ゲル表面へのアゾベンゼン基の導入と光機能化

著者 (3件)： 青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 2O12  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 紫外線照射 ,  *ゲル ,  表面改質 ,  *光酸化 ,  酸塩化物 ,  架橋【高分子】 ,  前駆体 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  接触角 ,  光異性化 ,  フォトマスク ,  表面処理 ,  酸化膜 ,  薄膜 ,  濡れ ,  光分解 ,  *真空紫外線 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニルハロゲニド ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン ,  ヒドロキシ基 ,  マスク ,  化成皮膜
準シソーラス用語： ヒドロキシル基

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (2件)： アゾベンゼン ,  ダンシルクロリド

タイトルに関連する用語 (4件)： 光酸化 ,  高分子ゲル ,  アゾベンゼン ,  光機能