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J-GLOBAL ID：200902227729216352   整理番号：09A0102751

液晶性超分子ブロック共重合体を利用した高分子ナノ加工

著者 (5件)： 佐藤正尚 (名大 院) ,  近藤剛司 (名大 院) ,  三井俊 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 2F18  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  超分子構造 ,  *高分子液晶 ,  *ポリスチレン ,  *P4VP ,  分子 ,  包接化合物 ,  *水素結合錯体 ,  ミクロドメイン ,  高分子薄膜 ,  *分子配向 ,  分子集合体 ,  ナノ構造 ,  スメクチック相 ,  小角X線散乱 ,  示差走査熱量測定 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  原子間力顕微鏡 ,  制御 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物 ,  ゲスト分子 ,  ナノピラー ,  配向制御

分類 (3件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  その他の液晶  (BK03030H)

物質索引 (2件)： アゾベンゼン ,  3-[4-(4′-オクチルアゾベンゼン-4-イルオキシ)-1-メチルブトキシ]安息香酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 液晶 ,  超分子 ,  ブロック共重合体 ,  高分子 ,  ナノ加工