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J-GLOBAL ID：200902230160043803   整理番号：05A1036510

高温超伝導バルクを用いた非接触スピン処理装置の研究開発(2)-研究の現状と今後の研究計画-

著者 (11件)： 山士家奨 (新潟大) ,  笠井雅俊 (新潟大) ,  佐藤隆一 (新潟大) ,  高田護 (新潟大) ,  小川純 (新潟大) ,  福井聡 (新潟大) ,  山口貢 (新潟大) ,  佐藤孝雄 (新潟大) ,  笹原友栄 (MTC) ,  西脇俊朗 (新潟TLO) ,  結城洋司 (新潟TLO)
資料名： 低温工学・超電導学会講演概要集  (低温工学・超電導学会研究発表会講演概要集)
巻： 73rd  ページ： 112  発行年： 2005年11月21日 
JST資料番号： G0564B  ISSN： 0919-5998  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体フォトマスクの微細加工プロセス(ウェットプロセス)にお...

シソーラス用語： フォトマスク ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  超伝導磁石  (BM04042N)

引用文献 (1件)：

• 福井. 2005年度秋季低温工学・超電導学会講演概要集. 2005

タイトルに関連する用語 (8件)： 高温超伝導 ,  バルク ,  非接触 ,  スピン ,  研究 ,  開発 ,  現状 ,  計画