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J-GLOBAL ID：200902232290281822   整理番号：09A0528900

真空紫外光を用いた高分子ゲル表面への高分子グラフト鎖の導入とそのパターニング

Preparation and patterning of graft polymer chains to gel surface through VUV treatment

著者 (4件)： 今井絢二郎 (名大 院) ,  青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 89th  号： 1  ページ： 476  発行年： 2009年03月13日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Ethylene glycol methyl ether methacrylateを主成分としアクリレート部位を5%程度含むゲル前駆体を光架橋し,ドライゲル薄膜を調製した。その膜に,フォトマスクを介してVUV光を照射しOH基のパターニングを形成させた。P4VPグラフト鎖の導入は,光表面酸化処理を行ったドライゲル表面に重合開始基を修飾し,原子移動ラジカル重合(ATRP)法により行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *真空紫外線 ,  *紫外線照射 ,  *ゲル ,  *光架橋 ,  *薄膜成長 ,  *表面構造 ,  フォトマスク ,  *パターン形成 ,  ラジカル重合 ,  表面処理 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  蛍光測定 ,  *グラフト共重合体 ,  *ポリマゲル ,  *構造 ,  マスク
準シソーラス用語： *高分子ゲル

分類 (5件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  重合触媒,重合開始剤  (CG04070V) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： エチレングリコールメチルエーテルメタクリラート

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子ゲル ,  高分子 ,  グラフト鎖 ,  パターニング