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J-GLOBAL ID：200902235204945836   整理番号：09A0429075

量子化学計算による高分子の屈折率・複屈折の波長分散と化学構造との関係

Relation between Wavelength Dispersion of Refractive Index and Birefringence of Polymers Estimated by Quantum Chemical Calculation and Chemical Structure

著者 (4件)： 久保山敬一 (東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻) ,  井久田明史 (東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻) ,  中嶋隆人 (東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻) ,  扇澤敏明 (東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 66  号： 4  ページ： 119-129 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,光学ポリマーが光学ディスクドライブのピックアップレンズやカラー液晶ディスプレイ用の位相差フィルムなど,より高性能な光学デバイスへ利用されるようになり,より高性能な材料が必要とされている.高性能化のためには屈折率・複屈折の値そのものの制御のほか,波長分散の制御が重要である.しかしながら,これらの特性,とくに複屈折分散と分子構造との関係に関する基礎的な知見は十分であるとは言い難い.そこで本研究では新規材料を開発する際にも有用であると考えられる,量子化学計算を用いた手法により屈折率・複屈折の波長分散を計算し,分子の化学構造との関係について検討した.より単純なモデル分子としてベンゼン,シクロヘキサン,n-ヘキサンを用いて複屈折分散について検討した結果,屈折率異方性と複屈折の分散の大きさとの間には関連があり,屈折率の異方性が大きいものでは複屈折の分散が大きくなることを見出した.したがって,屈折率異方性の小さいシクロヘキサンでは複屈折の波長分散は小さく,これとのアナロジーからシクロオレフィン系ポリマーの低複屈折性およびその低分散性を説明できることを示した.(著者抄録)

シソーラス用語： 複屈折 ,  分散【dispersion】 ,  屈折率 ,  計算 ,  *分子構造 ,  異方性 ,  重合体 ,  光学素子 ,  ab initio MO法 ,  *量子化学計算
準シソーラス用語： *波長分散 ,  シクロオレフィン

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (21件)：

• 1) T. Matsuda, Y. Funae, M. Yoshida, T. Yamamoto, and T. Takaya, J. Appl. Polym. Sci., 76, 45 (2000).
• 2) C-C. Chang, and W-C. Chen, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 39, 3419 (2001).
• 3) C. Lu, Zhanchen Cui, Yao Wang, Zuo Li, Cheng Guan, Bai Yang, and Jiacong Shen, J. Mater. Chem., 13, 2189 (2003).
• 4) H. Saito and T. Inoue, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys., 25, 1629 (1987).
• 5) K. Kuboyama, T. Kuroda, and T. Ougizawa, Kobunshi Ronbunshu, 61, 89 (2004).

タイトルに関連する用語 (6件)： 量子化学計算 ,  高分子 ,  屈折率 ,  複屈折 ,  波長分散 ,  化学構造