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J-GLOBAL ID：200902235239880672   整理番号：09A0103961

真空紫外光を利用した高分子グラフト鎖の導入による高分子表面の機能化

著者 (5件)： 今井絢二郎 (名大 院) ,  青島ほずみ (名大 院) ,  植草貴行 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 3PD102  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲル ,  メソゲン ,  P4VP ,  *表面処理 ,  高分子薄膜 ,  原子移動ラジカル重合 ,  パターン形成 ,  真空紫外線 ,  光分解 ,  *グラフト化【化学修飾】 ,  *ポリマゲル
準シソーラス用語： *グラフト化 ,  ポリ-4-ビニルピリジン ,  *高分子ゲル

分類 (3件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  共重合  (CG04030D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： メタクリル酸10-(4′-ペンチルアゾベンゼン-4-イルオキシ)デシル ,  メタクリル酸2-メトキシエチル

タイトルに関連する用語 (3件)： 高分子 ,  グラフト鎖 ,  高分子表面