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J-GLOBAL ID：200902236986841216   整理番号：09A1210316

真空紫外光酸化を用いたポリイミド薄膜表面への光応答基の導入と液晶光配向

著者 (4件)： 佐々木章 (名大 院) ,  青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2009  ページ： ROMBUNNO.PA13  発行年： 2009年09月07日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  高分子薄膜 ,  応答 ,  *分子配向 ,  *液晶 ,  光酸化 ,  紫外線照射 ,  酸化 ,  表面処理 ,  化学修飾 ,  X線光電子分光法 ,  画像 ,  基 ,  *光配向 ,  表面酸化 ,  化学処理
準シソーラス用語： 光応答 ,  蛍光画像 ,  アゾベンゼン基 ,  シンナモイル基

分類 (1件)： 液晶一般  (BK03010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光酸化 ,  ポリイミド薄膜 ,  光応答 ,  液晶 ,  光配向