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J-GLOBAL ID：200902251058126521   整理番号：03A0648353

AlInAs選択酸化を用いた低屈折率クラッド層の形成による非相反移相効果の増大

著者 (3件)： 庄司雄哉 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  横井秀樹 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  水本哲弥 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 64th  号： 3  ページ： 1061  発行年： 2003年08月30日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アイソレータ ,...
準シソーラス用語： 光アイソレータ

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分類 (2件)： その他の光伝送素子  (BD06040S) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： AlInAs ,  選択酸化 ,  低屈折率 ,  クラッド層 ,  移相