反応性パルスレーザーアブレーション法によるInTaO<sub>4</sub>系ナノ構造体の作製

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J-GLOBAL ID：200902251624202400 整理番号：07A0382846

反応性パルスレーザーアブレーション法によるInTaO₄系ナノ構造体の作製

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資料名：
巻： 54th 号： 3 ページ： 1208 発行年： 2007年03月27日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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薄膜成長技術・装置 , レーザ照射・損傷

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