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J-GLOBAL ID：200902252840456413   整理番号：07A0001257

光化学反応を用いた含フッ素ポリイミド/エポキシ複合材料系の屈折率制御

著者 (4件)： CHEN Ningjuan (東京工大 大学院) ,  中野嘉一郎 (NEC) ,  前田勝美 (NEC) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 55  号： 2 Disk1  ページ： 2H06  発行年： 2006年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光化学反応 ,...
準シソーラス用語： フォトブリーチング

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分類 (4件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  重付加  (CG04040O) ,  その他の高分子材料  (YH07150C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： 4,4′-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ビス(1,2-ベンゼンジカルボン酸) ,  4,4′-メチレンビス(シクロヘキサン-1-アミン) ,  7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン-3-カルボン酸7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン-3-イルメチル ,  ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ,  ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム・ヘキサフルオロスチビナート(V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光化学反応 ,  フッ素 ,  ポリイミド ,  複合材料 ,  屈折率