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J-GLOBAL ID:200902253417606510   整理番号:08A0462738

真空紫外光酸化を利用した高分子ゲル表面への光機能基の導入とパターニング

著者 (3件):
資料名:
巻: 88th  号:ページ: 585  発行年: 2008年03月12日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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メトキシオリゴエチレングリコールモノメタクリレートの重合体を架橋したハイドロゲル前駆体薄膜を合成し,真空紫外(VUV)光を用いて表面を親水化処理した後,アゾベンゼン誘導体を表面処理を行うことにより,表面のみを光機能化したハイドロゲル前駆体薄膜を調製した。紫外・可視吸収を観察した結果,VUVの照射条件によってアゾベンゼンの導入量を制御できることがわかった。また,172nmのVUV光を用いることで,光機能基のパターニングもできる。(著者抄録)
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分類 (5件):
分類
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光化学一般  ,  高分子溶液の物理的性質  ,  コロイド化学一般  ,  その他の光学的効果  ,  有機化合物・錯体の蛍光・りん光(分子) 
タイトルに関連する用語 (4件):
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