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J-GLOBAL ID:200902253478479430   整理番号:09A0620867

液体内と通常のプラズマ化学気相蒸着法を利用したダイヤモンドの成長速度の比較

A comparison of diamond growth rate using in-liquid and conventional plasma chemical vapor deposition methods
著者 (5件):
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巻: 105  号: 11  ページ: 113306  発行年: 2009年06月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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効率的にダイヤモンドの高速度蒸着を行うために,気相マイクロ波プラズマ化学気相蒸着と液中マイクロ波プラズマ化学気相蒸着の比較を行った。メタンと水素の混合気体を気相蒸着のための気体源として,また,メタンのエタノール溶液を液体内蒸着の液体源として利用した。実験系の圧力は60~150kPaの範囲内であった。ダイヤモンドの成長速度は圧力増加と共に増加するが,ダイヤモンドの単位体積当たりの入力マイクロ波エネルギーの量は利用した方法に関係なく1kWh/mm3であった。液体内蒸着法は液体自体の蒸発を通して優れた冷却効果を与え,高い圧力雰囲気の下でより高い入力電気パワーを印加出来る。液体内マイクロ波プラズマ化学気相蒸着過程の成長速度は同じ圧力条件のもとにおける通常の気相マイクロ波プラズマ化学気相蒸着過程より大きいことを見いだした。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  薄膜成長技術・装置 
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