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J-GLOBAL ID：200902253982084579   整理番号：09A1033332

ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン(POSS)含有高分子膜の合成とそのCO₂収着特性

著者 (7件)： 冨田裕子 (明治大 理工) ,  大輪州永 (明治大 理工) ,  武尾一興 (明治大 理工) ,  川北啓史 (明治大 理工) ,  佐藤修一 (明治大 理工) ,  兼橋真二 (明治大 理工) ,  永井一清 (明治大 理工)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 58  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.1PF104  発行年： 2009年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *有機-無機ハイブリッド ,  *ポリシルセスキオキサン ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  共重合体 ,  *二酸化炭素 ,  *収着 ,  溶解性 ,  多面体オリゴシルスセスキオキサン
準シソーラス用語： POSS

分類 (2件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (2件)： メタクリル酸3-[3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチル-2,4,6,8,10,12,14,16,17,18,19,20-ドデカオキサ-1,3,5,7,9,11,13,15-オクタシラペンタシクロ[9.5.1.1^3,9.1^5,15.1^7,13]イコサン-1-イル]プロピル ,  メタクリル酸3-[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]プロピル

タイトルに関連する用語 (4件)： POSS ,  高分子膜 ,  CO2 ,  収着