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J-GLOBAL ID：200902260353875900   整理番号：09A0103947

ブロック共重合体単分子膜のナノパターンを用いた高分子表面加工

著者 (3件)： 谷口大介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 3PC087  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *表面加工 ,  *高分子膜 ,  ポリスチレン ,  ポリビニルピリジン ,  パターン転写 ,  鋳型反応 ,  紫外線照射 ,  光酸化 ,  表面構造 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  *ブロック共重合体 ,  真空紫外線 ,  酸化ルテニウム ,  表面形態 ,  構造
準シソーラス用語： 表面モルフォロジー

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： ブロック共重合体 ,  単分子膜 ,  ナノパターン ,  高分子表面