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J-GLOBAL ID：200902261373687340   整理番号：08A1173361

Si添加アモルファス炭素膜の合成と光学的特性及びガスバリア性評価

著者 (6件)： 鈴木勝基 (東京工大 大学院) ,  大曽根祐樹 (東京工大 大学院) ,  西英隆 (東京工大 大学院) ,  齊藤雅典 (東京工大 大学院) ,  村上碩哉 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (名古屋大 大学院)
資料名： ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集
巻： 22nd  ページ： 124-125  発行年： 2008年10月21日 
JST資料番号： L1241A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光学的性質 ,  ガスバリヤ性 ,  *プラズマCVD ,  性質 ,  膜厚 ,  *炭素材 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  透過率 ,  透気性 ,  アルキン ,  *アモルファスカーボン ,  酸素透過性 ,  芳香族ポリエステル
準シソーラス用語： *光学的特性 ,  透明性 ,  PET【重合体】

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (2件)： アセチレン ,  テトラメチルシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  アモルファス ,  炭素膜 ,  光学的特性 ,  ガスバリア性 ,  評価