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J-GLOBAL ID：200902264000508984   整理番号：06A0745811

マイクロプラズマによるnc-Siの合成-クウェンチによる粒子性状の制御-

著者 (5件)： 佐々木健二 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  荻野智久 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  朝日大介 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  野崎智洋 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  岡崎健 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 67th  号： 1  ページ： 172  発行年： 2006年08月29日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X)

物質索引 (1件)： 四塩化けい素

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロプラズマ ,  NC ,  Si ,  性状