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J-GLOBAL ID：200902269520619799   整理番号：05A0648437

固体¹⁹F MAS及び¹H→¹⁹F CP/MAS NMR法を用いた含フッ素高分子レジスト基盤材料の構造解析

著者 (3件)： 湊雅之 (東京工大 大学院) ,  龍野宏人 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 54  号： 1 Disk1  ページ： 2PB080  発行年： 2005年05月10日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *MASNMR ,...
準シソーラス用語： FPR100

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分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (8件)： 固体 ,  MAS ,  CP ,  NMR ,  含フッ素高分子 ,  レジスト ,  基盤 ,  構造解析