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J-GLOBAL ID：200902270386171768   整理番号：09A1109104

ハーフメタル酸化物Sr₂FeMoO₆の薄膜特性

著者 (3件)： 門田祥悟 (東京工大 応用セラミックス研) ,  松本祐司 (東京工大 応用セラミックス研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (セラミックス基礎科学討論会講演予稿集)
巻： 47th  ページ： 538-539  発行年： 2009年01月08日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *金属酸化物 ,  *蒸着膜 ,  鉄化合物 ,  モリブデン化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  基板温度 ,  *電気抵抗率 ,  温度依存性 ,  強磁性体 ,  *完全スピン偏極強磁性体
準シソーラス用語： *ハーフメタル

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： メタル酸化物 ,  膜特性