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J-GLOBAL ID：200902271863924109   整理番号：07A1235964

ブロックコポリマー単分子膜のナノパターンの形成と高分子表面加工への応用

著者 (3件)： 谷口大介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 56  号： 2 Disk1  ページ： 2R05  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,...
準シソーラス用語： アッシング ,...

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分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  分子間相互作用  (BH07020P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： 4′-ペンチルビフェニル-4-カルボニトリル

タイトルに関連する用語 (5件)： ブロックコポリマー ,  単分子膜 ,  ナノパターン ,  高分子表面 ,  応用