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J-GLOBAL ID：200902272235011494   整理番号：08A0919674

ポリ(エチレンナフタレート)の表面処理のための大気圧非平衡マイクロ波放電プラズマジェットの温度挙動

Temperature behavior of atmospheric-pressure non-equilibrium microwave discharge plasma jets for poly(ethylene naptharate)-surface processing

著者 (5件)： YUJI Toshifumi (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Oita National Coll. of Technol., Oita, 870-0152, JPN) ,  URAYAMA Takuya (ADTEC Plasma Technol. Co., Ltd., 5-6-10 Hikino-cho, Fukuyama, Hiroshima 721-0942, JPN) ,  FUJII Shuitsu (ADTEC Plasma Technol. Co., Ltd., 5-6-10 Hikino-cho, Fukuyama, Hiroshima 721-0942, JPN) ,  MUNGKUNG Narong (Dep. of Electrical Technol. Education, King Mongkut’s Univ. of Technol. Thonburi, Bangkok 10140, THA) ,  AKATSUKA Hiroshi (Res. Lab. for Nuclear Reactors, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1-N1-10 O-okayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 202  号： 22-23  ページ： 5289-5292  発行年： 2008年08月30日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気圧非平衡マイクロ波放電プラズマジェットによる表面処理の機構を理解するために,光学発光分光を使用して,プラズマの振動と回転の温度を測定した。マイクロ波(2.45GHz)電源を使用して,プラズマを発生させた。プラズマ内の振動と回転の温度を,約0.18eVと0.22eVで測定した。また,ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)皮膜のプラズマ表面処理を行い,PEN皮膜の作製前後,およびプラズマの回転温度が増加する間の,水接触角の変化を測定した。プラズマの回転温度が増加するのに従って,PEN皮膜の表面の親水性が向上することが判明した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリエチレンナフタレート ,  *表面処理 ,  気圧 ,  *非平衡状態 ,  *マイクロ波放電 ,  *プラズマジェット ,  *プラズマ温度 ,  発光分光法 ,  振動温度 ,  回転温度 ,  接触角 ,  親水性 ,  発光スペクトル ,  プラスチックフィルム
準シソーラス用語： PEN【重合体】 ,  プラスチック膜 ,  大気圧 ,  非平衡

分類 (3件)： 表面処理  (YH04112X) ,  ポリエステル,アルキド  (YH07070P) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 表面処理 ,  大気圧 ,  非平衡 ,  マイクロ波放電 ,  プラズマジェット ,  挙動