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J-GLOBAL ID：200902273348319904   整理番号：07A0255525

電子線蒸発によるケイ化鉄の合成:基板のプリベーク温度の効果とFeの析出厚さ

Synthesis of Iron Silicides by Electron-Beam Evaporation: Effects of Substrate Prebaking Temperature and Fe Deposition Thickness

著者 (4件)： WON Jong Han (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SATO Kazuhisa (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ISHIMARU Manabu (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HIROTSU Yoshihiko (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 2  ページ： 732-737  発行年： 2007年02月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子線蒸発で合成したケイ化鉄のミクロ構造をケイ素(Si)基板...

シソーラス用語： *ケイ化物 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (33件)：

• Y. Makita: AIP Conf. Proc.440(1997)3.
• H. Lange: Phys. Status Solidi B 201(1997)3.
• O. Kubaschewski: Iron-Binary Phase Diagrams (Springer, Berlin, 1982).
• M. C. Bost and J. E. Mahan: J. Appl. Phys.58(1985)2696.
• N. E. Christensen: Phys. Rev. B 42(1990)7148.

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子線蒸発 ,  ケイ化鉄 ,  プリベーク ,  Fe ,  析出 ,  厚さ