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J-GLOBAL ID：200902275116599253   整理番号：07A1233107

強磁性電極と結合した半導体量子ドットにおけるKondo効果

Kondo effect in a semiconductor quantum dot coupled to ferromagnetic electrodes
著者 (10件)：
HAMAYA K.

HAMAYA K. について

(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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KITABATAKE M.

KITABATAKE M. について

(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN について

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SHIBATA K.

SHIBATA K. について

(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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JUNG M.

JUNG M. について

(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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KAWAMURA M.

KAWAMURA M. について

(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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HIRAKAWA K.

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(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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MACHIDA T.

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(Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN)

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TANIYAMA T.

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(Materials and Structures Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, JPN)

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ISHIDA S.

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(Res. Center for Advanced Sci. and Technol. and Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku ...)

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ARAKAWA Y.

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(Res. Center for Advanced Sci. and Technol. and Inst. of Industrial Sci., Univ. of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku ...)

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資料名：
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

Applied Physics Letters について


巻： 91  号： 23  ページ： 232105-232105-3  発行年： 2007年12月03日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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横向きに作製した量子ドット(QD)型スピンバルブ素子を用いて...
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強磁性体

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分類 (1件)：
分類
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半導体-金属接触 
(BM03084G)

半導体-金属接触 について

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強磁性電極

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半導体量子ドット

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Kondo効果

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