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J-GLOBAL ID：200902275201945519   整理番号：09A0425982

第二次高調波発生法によるパラレル・アンチパラレルセル界面分子配向の評価

著者 (5件)： 川手隆司 (東京工大 理工) ,  宮沢亮 (東京工大 理工) ,  田口大 (東京工大 理工) ,  間中孝彰 (東京工大 理工) ,  岩本光正 (東京工大 理工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 56th  号： 3  ページ： 1328  発行年： 2009年03月30日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *第二高調波発生 ,  界面 ,  *分子配向 ,  ポリイミド ,  薄膜 ,  歪 ,  ラビング ,  石英 ,  基板 ,  配向ベクトル ,  入射角 ,  偏光 ,  傾斜角 ,  アンカリング【液晶】 ,  極性 ,  *液晶 ,  配向膜
準シソーラス用語： 平行 ,  プレチルト角

分類 (2件)： 液晶一般  (BK03010L) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 第二次高調波 ,  界面 ,  分子配向 ,  評価