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J-GLOBAL ID：200902277827032321   整理番号：07A0002197

光学活性なピナニルシリル基と2つの水酸基を持つフェニルアセチレンのらせん選択共重合と生成高分子の主鎖らせん構造の刺激応答性,脱シリル化反応および光学異性体選択透過性

著者 (8件)： 寺口昌宏 (新潟大 大学院) ,  寺口昌宏 (新潟大) ,  持舘和臣 (新潟大 大学院) ,  波多野慎悟 (新潟大 VBL) ,  青木俊樹 (新潟大 大学院) ,  青木俊樹 (新潟大) ,  青木俊樹 (新潟大 VBL) ,  金子隆司 (新潟大)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 55  号： 2 Disk1  ページ： 3V01  発行年： 2006年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリフェニルアセチレン ,...
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,...

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分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (4件)： 1,3-ジメチル-2-(ドデシルオキシ)-5-エチニルベンゼン ,  1,3-ジメチル-2-[(イソプロピルジメチルシリル)メトキシ]-5-エチニルベンゼン ,  2-(ドデシルオキシ)-5-エチニル-1,3-ベンゼンジメタノール ,  2-[(イソプロピルジメチルシリル)メトキシ]-5-エチニル-1,3-ベンゼンジメタノール

タイトルに関連する用語 (12件)： 光学活性 ,  水酸基 ,  フェニルアセチレン ,  らせん ,  共重合 ,  高分子 ,  主鎖 ,  らせん構造 ,  刺激応答性 ,  脱シリル化反応 ,  光学異性体 ,  選択透過性