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J-GLOBAL ID:200902278452068524   整理番号:09A0404486

単分散シリカ粒子の自己組織化による三次元規則細孔シリカの合成

著者 (4件):
資料名:
巻: 103rd  ページ: 122  発行年: 2009年03月30日 
JST資料番号: S0874A  ISSN: 1343-9936  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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シリカ粒子が分散した溶液に,TEOSを導入して粒子成長を促進させるシード法を用いて,20~650nmの単分散球状シリカ粒子の調製に成功した。また,分散液の溶媒を除去することで,粒子は自己組織的に立方最密充填構造を形成した。得られたシリカは8~130nmの粒子間細孔を有する多孔質シリカであった。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
分類
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コロイド化学一般 

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