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J-GLOBAL ID：200902282069362793   整理番号：08A0717138

片巻きらせんポリフェニルアセチレン自立膜の選択的芳香環形成による超分子膜の調製

著者 (12件)： 浪越毅 (新潟大) ,  浪越毅 (新潟大 VBL) ,  鬼山祥幸 (新潟大 大学院) ,  波多野慎悟 (京大 大学院) ,  寺口昌宏 (新潟大 環材ナノC) ,  寺口昌宏 (新潟大) ,  金子隆司 (新潟大 環材ナノC) ,  金子隆司 (新潟大) ,  青木俊樹 (新潟大 大学院) ,  青木俊樹 (新潟大 環材ナノC) ,  青木俊樹 (新潟大) ,  青木俊樹 (新潟大 VBL)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 1 Disk1  ページ： 2C29  発行年： 2008年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリフェニルアセチレン ,  光学異性 ,  ヘリックス構造 ,  *紫外線照射 ,  *光分解 ,  *超分子 ,  膜 ,  選択性 ,  環化反応 ,  三量化 ,  自立膜

分類 (4件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  環化反応,開環反応  (CF02050I) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A)

物質索引 (3件)： 1,3,5-トリス[3,5-ビス(ヒドロキシメチル)-4-(ドデシルオキシ)フェニル]ベンゼン ,  1,3,5-トリス[3,5-ビス(ヒドロキシメチル)-4-(4-フェニルエチニルベンジルオキシ)フェニル]ベンゼン ,  1,3,5-トリス[3,5-ビス(ヒドロキシメチル)-4-[4-(ドデシルオキシ)ベンジルオキシ]フェニル]ベンゼン

タイトルに関連する用語 (6件)： らせん ,  ポリフェニルアセチレン ,  自立膜 ,  芳香環 ,  超分子 ,  調製