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J-GLOBAL ID：200902282383704607   整理番号：08A0717051

低分子化合物単分子膜の共展開によるブロックコポリマー表面逆ミセル構造の発現と金属ドットパターンの構築

著者 (3件)： 衣松徹哉 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 1 Disk1  ページ： 1PG133  発行年： 2008年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  表面プラズモン ,  表面構造 ,  *表面性状 ,  ミセル ,  *ナノ構造 ,  *ミクロ相分離 ,  ポリスチレン ,  ポリビニルピリジン ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  転写 ,  プラズモン ,  紫外可視吸収スペクトル ,  アレイ回路 ,  表面加工 ,  原子間力顕微鏡 ,  *金属 ,  *単分子層 ,  雲母 ,  石英 ,  コロイド ,  単分子膜 ,  金コロイド ,  構造
準シソーラス用語： LB膜 ,  マイカ

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

物質索引 (1件)： 6-(4′-ヘキシルアゾベンゼン-4-イルオキシ)ヘキサン酸

タイトルに関連する用語 (7件)： 低分子化合物 ,  単分子膜 ,  展開 ,  ブロックコポリマー ,  逆ミセル ,  ドットパターン ,  構築