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J-GLOBAL ID：200902285356446301   整理番号：09A1033595

斜入射広角X線回折(GIWAXD)によるポリイミド薄膜における分子鎖の凝集構造の解析

著者 (4件)： 脇田潤史 (東京工大 大学院) ,  JIN Sangwoo (POSTECH) ,  REE Moonhor (POSTECH) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 58  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.2K-17  発行年： 2009年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *芳香族ポリイミド ,  *高分子薄膜 ,  *凝集 ,  構造解析 ,  高分子鎖 ,  熱処理 ,  規則相 ,  非晶質 ,  X線回折 ,  斜め入射波 ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  カルボン酸無水物 ,  芳香族アミン ,  ジアミン ,  第一アミン ,  構造変化 ,  広角X線回折
準シソーラス用語： 秩序相

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (5件)： PMDA ,  p-フェニレンジアミン ,  BPDA ,  ビス(4-アミノシクロヘキシル)メタン ,  4,4′-ODA

タイトルに関連する用語 (6件)： 斜入射 ,  広角X線回折 ,  ポリイミド薄膜 ,  分子鎖 ,  凝集構造 ,  解析