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J-GLOBAL ID：200902286490507615   整理番号：08A0716697

真空紫外光酸化を用いた高分子ゲル表面への光機能基の導入とパターニング

著者 (3件)： 青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 1 Disk1  ページ： 1PD132  発行年： 2008年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲル ,  *真空紫外線 ,  光酸化 ,  *パターン形成 ,  基 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  *紫外可視吸収スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  画像処理 ,  画像特性 ,  放射強度 ,  光分解 ,  *ヒドロゲル ,  芳香族アミン ,  スルホニルハロゲニド ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン ,  官能基 ,  蛍光強度 ,  ポリマゲル
準シソーラス用語： グラデーション ,  高分子ゲル

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (1件)： ダンシルクロリド

タイトルに関連する用語 (4件)： 光酸化 ,  高分子ゲル ,  機能基 ,  パターニング