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J-GLOBAL ID：200902288994620555   整理番号：04A0437620

干渉光学的アプローチによる高感度光誘起表面レリーフ形成機構の解明

Interference optical approaches to the investigation of mechanism for rapid photoinduced surface relief formation on azobenzene-based liquid crystalline polymer thin film.

著者 (4件)： 小笠原利信 (名大 院) ,  是津信行 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 84th  号： 1  ページ： 429  発行年： 2004年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アゾベンゼン含有高分子薄膜に干渉露光をおこなうと,高分子の移...

シソーラス用語： *高分子液晶 ,...
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】

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分類 (3件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  液晶一般  (BK03010L) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

物質索引 (1件)： 4-[10-(アクリロイルオキシ)デシルオキシ]-4′-ヘキシルアゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (4件)： 干渉光 ,  高感度 ,  光誘起 ,  表面レリーフ