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J-GLOBAL ID：200902290592130874   整理番号：07A0377018

Zn及びH₂Oを原料とする大気圧化学気相堆積法によって成長したZnO薄膜の光学的特性

著者 (6件)： 寺迫智昭 (愛媛大 工) ,  松浦秀和 (愛媛大 工) ,  片岡知美 (詫間電波工高専) ,  宮田晃 (愛媛大 工) ,  矢木正和 (詫間電波工高専) ,  白方祥 (愛媛大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 1  ページ： 593  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化合物半導体 ,...
準シソーラス用語： AP-CVD

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (8件)： Zn ,  H2O ,  原料 ,  大気圧 ,  化学気相堆積 ,  成長 ,  ZnO薄膜 ,  光学的特性