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J-GLOBAL ID：200902291742101351   整理番号：09A0102113

物理エージング挙動の製膜条件依存性から観たPS薄膜の構造

著者 (5件)： 本間立樹 (東京工大 大学院) ,  阿多誠介 (東京工大 大学院) ,  扇澤敏明 (東京工大 大学院) ,  伊藤賢志 (産業技術総合研) ,  小林慶規 (産業技術総合研)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 1I15  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  製膜 ,  偏光解析法 ,  スピンコーティング ,  高分子溶液 ,  からみ合 ,  熱処理 ,  膜厚 ,  ガラス転移点 ,  加工条件
準シソーラス用語： 物理エージング

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 物理 ,  エージング ,  挙動 ,  製膜 ,  依存性 ,  PS ,  薄膜