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J-GLOBAL ID：200902293154410413   整理番号：09A0863566

トポロジカル絶縁体Bi₂Se₃の結晶育成とフェルミ準位制御

著者 (4件)： 五十嵐九四郎 (東工大 応セラ) ,  中島裕司 (東工大 応セラ) ,  片桐隆雄 (東工大 応セラ) ,  笹川崇男 (東工大 応セラ)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 64  号： 2 第4分冊  ページ： 818  発行年： 2009年08月18日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 位相幾何学 ,  絶縁材料 ,  *セレン化物 ,  *ビスマス化合物 ,  *ドーピング ,  *Fermi準位 ,  絶縁体
準シソーラス用語： トポロジー ,  バンド絶縁体

分類 (1件)： 絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： トポロジカル絶縁体 ,  結晶育成 ,  フェルミ準位