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J-GLOBAL ID：200902295260754876   整理番号：09A0574473

真空紫外光酸化を用いた高分子材料表面への光機能基の導入と液晶配向

著者 (4件)： 佐々木章 (名大 院) ,  青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 58  号： 1 Disk1  ページ： 1PC111  発行年： 2009年05月12日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ポリイミド ,  高分子薄膜 ,  光酸化 ,  *表面処理 ,  アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル ,  カルボン酸塩 ,  不飽和カルボン酸 ,  *ネマチック相 ,  光異性化 ,  *分子配向 ,  表面酸化 ,  配向膜 ,  *光配向 ,  アゾベンゼン類 ,  シンナマート類
準シソーラス用語： アゾベンゼン誘導体 ,  シンナメート

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  液晶一般  (BK03010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 光酸化 ,  高分子材料 ,  機能基 ,  液晶配向