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J-GLOBAL ID：200902296790644520   整理番号：09A0424562

Sr₂FeMoO₆薄膜におけるハーフメタル特性のコンビナトリアル最適化

著者 (3件)： 門田祥悟 (東京工大 応用セラミックス研) ,  松本祐司 (東京工大 応用セラミックス研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 56th  号： 2  ページ： 776  発行年： 2009年03月30日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ストロンチウム化合物 ,  鉄化合物 ,  モリブデン化合物 ,  酸化物 ,  *強磁性体 ,  *コンビナトリアルケミストリー ,  レーザ蒸着 ,  基板温度 ,  X線回折 ,  蒸着膜 ,  *電気抵抗率 ,  スピン分極 ,  *磁化特性 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *完全スピン偏極強磁性体
準シソーラス用語： *ハーフメタル

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  ハーフメタル ,  最適化