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J-GLOBAL ID：200902296886417177   整理番号：09A0288108

シリコン含有アモルファス炭素膜の合成とそのガスバリア性評価

著者 (6件)： 鈴木勝基 (東京工大 大学院) ,  大曽根祐樹 (東京工大 大学院) ,  西英隆 (東京工大 大学院) ,  齊藤雅典 (東京工大 大学院) ,  村上碩哉 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (名古屋大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2009  号： 春季(CD-ROM)  ページ： J16  発行年： 2009年02月25日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ケイ素 ,  炭素材 ,  炭素 ,  *薄膜 ,  合成 ,  *ガスバリヤ性 ,  キャラクタリゼーション ,  酸素 ,  光透過 ,  着色 ,  *アモルファスカーボン ,  炭素膜
準シソーラス用語： シリコン

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  アモルファス ,  炭素膜 ,  ガスバリア性 ,  評価