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J-GLOBAL ID：200902298024863566   整理番号：07A0662911

真空紫外光酸化を利用した高分子ゲル表面へのアゾベンゼン基の導入

著者 (3件)： 青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 56  号： 1 Disk1  ページ： 2PC137  発行年： 2007年05月10日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *真空紫外線 ,...
準シソーラス用語： 高分子ゲル

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分類 (1件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (2件)： アゾベンゼン ,  メタクリル酸2-ヒドロキシエチル

タイトルに関連する用語 (3件)： 光酸化 ,  高分子ゲル ,  アゾベンゼン