特許

J-GLOBAL ID：200903016323114519

2次光非線形材料及びその製造方法

発明者： 天野 道之 ,  戒能 俊邦 ,  佐々木 重邦 ,  安藤 慎治 ,  松浦 徹
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-123054
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003713
出願日： 1991年04月26日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】【目的】 近赤外域において光透過損失の極めて少ない2次光非線形材料、及びその製造方法を提供する。【構成】 一般式(化5):【化5】(式中R1 及びR2 は、ベンゼン環の1〜3個からなり、2以上の場合には、R1 では間接に、R2 では直接又は間接に結合しており、このポリイミド中の水素は、すべてフッ素又はパーフルオロアルキル基で置換されている)で表される全フッ素化ポリイミド又は中間体のポリアミド酸中に2次光非線形性構造単位を含有する2次光非線形材料。該単位の存在下におけるポリアミド酸化又はポリイミド化、あるいは分極処理によるその製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(化1):【化1】〔式中R1 は下記式(化2):【化2】で表される基のうちのいずれかの基、R2 は下記式(化3):【化3】で表される基のうちのいずれかの基であり、ここで式中Rfはフッ素、又はパーフルオロアルキル基、Xは下記式(化4):【化4】(ここで式中Rf′はパーフルオロアルキレン基、nは1〜10の数を示す)で表される基のうちのいずれかの基である〕で表される繰返し単位を含有する全フッ素化ポリアミド酸、あるいは下記一般式(化5):【化5】〔式中R1 及びR2 は一般式(化1)中のR1 及びR2 と同義である〕で表される繰返し単位を含有する全フッ素化ポリイミド中に、2次光非線形性構造単位を含有していることを特徴とする2次光非線形材料。