特許

J-GLOBAL ID：200903021275496297

二元細孔シリカの製造方法

発明者： 佐藤 智司 ,  高橋 亮治 ,  松谷 勝博 ,  石附 正成 ,  三上 直樹
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-257162
公開番号（公開出願番号）：特開2007-070145
出願日： 2005年09月05日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

【課題】 珪酸アルカリ金属塩をシリカ源とし、マクロ細孔の形成に高価な水溶性高分子を使用すること無く、しかも、再現性よく二元細孔シリカを得ることが可能な、二元細孔シリカの製造方法を提供する。【解決手段】 珪酸アルカリ金属塩、アルキル硫酸塩、極性有機溶媒及び酸触媒を含むゾル液を、ゲル化の進行による相分離の過渡状態でゲル化を完了させることを特徴とする二元細孔シリカの製造方法であり、得られた二元細孔シリカは、例えばクロマトグラフィー用カラム担体、固体触媒、触媒担体、吸着材、分離材などの用途において、その要求に合った任意の細孔径を有する二元細孔シリカを製造する際に好適に利用される。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

珪酸アルカリ金属塩、アルキル硫酸塩、極性有機溶媒及び酸触媒を含むゾル液を、ゲル化の進行による相分離の過渡状態でゲル化を完了させることを特徴とする二元細孔シリカの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 37/02

FI (1件)：

C01B37/02

Fターム (21件)：

4G073BA04 ,  4G073BA63 ,  4G073BB02 ,  4G073BB17 ,  4G073CB09 ,  4G073CZ54 ,  4G073FA15 ,  4G073FB19 ,  4G073FC06 ,  4G073FD01 ,  4G073FD02 ,  4G073FD15 ,  4G073FD20 ,  4G073FD21 ,  4G073FD23 ,  4G073GA13 ,  4G073GA14 ,  4G073GB02 ,  4G073UA01 ,  4G073UA02 ,  4G073UA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平3-8729号公報
  

審査官引用 (4件)

• 特開平3-008729
  
• バイモーダル型細孔構造を有するメソ多孔性シリカおよびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-186726   出願人：独立行政法人科学技術振興機構
• 多孔体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-150299   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 二元細孔シリカ粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-400202   出願人：株式会社トクヤマ

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 水ガラス-ドデシル硫酸ナトリウム(SDS)系の相分離