特許
J-GLOBAL ID:200903010914678030
バイモーダル型細孔構造を有するメソ多孔性シリカおよびその製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
筒井 知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-186726
公開番号(公開出願番号):特開2005-022881
出願日: 2003年06月30日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】2種類のタイプの異なるメソ細孔を同時に有するバイモーダル型細孔構造から成る多孔性シリカを構築する技術を提供する。【解決手段】界面活性剤の集合構造を鋳型としてゾルゲル反応によりメソ多孔性シリカを調製するに際してゾルゲル反応触媒以外の反応促進物質となるアニオン(例えば、BF4-、PF6-、F-)を反応系に存在させる。2種類のメソ細孔、特に、蜂の巣状に配列し孔径2〜4nmの範囲にあるシリンダー状の細孔と、4nm以上の孔径とを有するメソ多孔性シリカが得られる。【選択図】 図7
請求項(抜粋):
第1のメソ細孔群とそれよりも孔径の大きい第2のメソ細孔群とから成る孔径の異なる2種類のメソ細孔を同時に有することを特徴とするメソ多孔性シリカ。
IPC (3件):
C01B37/02
, B01J29/035
, B01J32/00
FI (3件):
C01B37/02
, B01J29/035 Z
, B01J32/00
Fターム (43件):
4G069AA01
, 4G069AA08
, 4G069BA02
, 4G069BC15A
, 4G069BC20A
, 4G069BC24A
, 4G069BD01A
, 4G069BD03A
, 4G069BD03B
, 4G069BD11A
, 4G069BD15A
, 4G069BD15B
, 4G069DA05
, 4G069EA01X
, 4G069EA01Y
, 4G069EC14X
, 4G069EC15X
, 4G069EC16X
, 4G069EC17X
, 4G069FB08
, 4G069FC03
, 4G073BA14
, 4G073BA23
, 4G073BA31
, 4G073BA61
, 4G073BA63
, 4G073BA75
, 4G073BB15
, 4G073BB16
, 4G073BB55
, 4G073BB57
, 4G073BB61
, 4G073BC02
, 4G073FA15
, 4G073FC06
, 4G073FC13
, 4G073GA03
, 4G073GA13
, 4G073GA19
, 4G073GB02
, 4G073UA02
, 4G073UA06
, 4G073UB18
引用特許: