特許

J-GLOBAL ID：200903029009586524

基材表面の清浄化方法、清浄化表面を備えた基材及び清浄性コーティング組成物

発明者： 早川 信 ,  小島 栄一 ,  則本 圭一郎 ,  町田 光義 ,  北村 厚 ,  渡部 俊也 ,  千国 真 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-076275
公開番号（公開出願番号）：特開2003-291243
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 2003年10月14日
要約：

【要約】【目的】基材の表面を高度に親水化する親水性コーティングの形成方法および該方法の実施に用いるコーティング組成物を提供することを目的とする。【構成】コーティング組成物は、硬化に伴いシリコーン樹脂の被膜を形成する塗膜形成要素と、この塗膜形成要素中に分散された光触媒の粒子を含有する。このコーティング組成物を基材に塗布し硬化させてシリコーン樹脂の被膜を形成した後、光触媒を光励起すると、被膜の表面のシリコーン分子のケイ素原子に結合した有機基は光触媒作用により水の存在下で水酸基に置換され、被膜の表面が高度に親水化される。

請求項（抜粋）：

親水性表面を備えた複合材であって、基材と、前記基材の表面に接合され光触媒性半導体材料を含む層とを備え、前記光触媒性材料は、光励起に応じて、前記複合材の表面を親水性になすことを特徴とする複合材。

Fターム (14件)：

4F100AA20 ,  4F100AA20B ,  4F100AA21 ,  4F100AA21B ,  4F100AH08B ,  4F100AK52 ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46 ,  4F100EH46B ,  4F100JB05 ,  4F100JL06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-100042
  
• 建築材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-146564   出願人：株式会社竹中工務店, 藤嶋昭, 橋本和仁