特許
J-GLOBAL ID：200903041536498161
光反応性薄膜加工法並びに光反応性薄膜加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉井 剛
, 吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-089637
公開番号（公開出願番号）：特開2005-313315
出願日： 2005年03月25日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 プローブで観測した前記諸特性例えば光入射角度、光強度、光偏光状態をフィードバックさせることで、所望の構造または物性を持つ光反応性薄膜に加工することのできる光反応性薄膜加工法を提供すること。【解決手段】 プリズム3表面における二つのレーザー光の全反射による二つのエバネッセント波の干渉で形成された合成表面電磁場を用いて、プリズム3表面に直接若しくは近接させて配置した光反応性薄膜1を加工する方法において、前記光反応性薄膜1の表面上に走査型プローブ顕微鏡のプローブ4を配置して、光の半波長以下の領域において加工中の薄膜1の空間的構造、または磁気特性、光学特性、電気伝導特性などの構造または物性をその場で加工の前後あるいは加工と同時に観測し、この観測した前記走査型プローブ顕微鏡の信号に基づいて前記レーザー光を制御することによって前記構造または前記物性を制御して光反応性薄膜1を加工する光反応性薄膜加工法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
プリズム表面における二つのレーザー光の全反射による二つのエバネッセント波の干渉で形成された合成表面電磁場を用いて、プリズム表面に直接若しくは近接させて配置した光反応性薄膜を加工する方法において、前記光反応性薄膜の表面上に走査型プローブ顕微鏡のプローブを配置して、光の半波長以下の領域において加工中の薄膜の空間的構造、または磁気特性、光学特性、電気伝導特性などの構造または物性をその場で加工の前後あるいは加工と同時に観測し、この観測した前記走査型プローブ顕微鏡の信号に基づいて前記レーザー光を制御することによって前記構造または前記物性を制御して光反応性薄膜を加工することを特徴とする光反応性薄膜加工法。
IPC (8件)：
B82B3/00
, B01J19/12
, G01N13/12
, G01N13/14
, G01N13/16
, G01N13/22
, G02B5/18
, G02B5/32
B82B3/00
, B01J19/12 B
, G01N13/12 A
, G01N13/14 A
, G01N13/16 A
, G01N13/22 A
, G02B5/18
, G02B5/32
2H049AA02
, 2H049AA12
, 2H049AA34
, 2H049AA55
, 2H049CA05
, 2H049CA15
, 2H049CA24
, 2H049CA28
, 4G075AA24
, 4G075AA65
, 4G075BA04
, 4G075CA36
, 4G075DA01
, 4G075EB35
