特許

J-GLOBAL ID：200903074327101462

化学気相成長法用液体原料、化学気相成長法による膜形成方法、および、化学気相成長装置

発明者： 堀川 剛
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-273624
公開番号（公開出願番号）：特開2003-082464
出願日： 2001年09月10日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】 良質な珪酸塩化合物の成膜を実現可能な、化学気相成長法用液体原料、化学気相成長法による膜形成方法、および、化学気相成長装置を提供する。【解決手段】 化学気相成長法用液体原料に、有機金属化合物と、シロキサン化合物と、有機金属化合物およびシロキサン化合物を溶解させるための有機溶媒とを含ませる。有機金属化合物に、プロポキシル基以上の炭素数を有するアルコキシル基(例えばターシャリーブトキシル基)やβジケトン基(例えばテトラメチルへプタンジオネイト基)が含まれておれば、成膜安定性に優れている。また、有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ノルマルオクタン、イソオクタン等を採用すればよい。シロキサン化合物としては、無極性溶媒への溶解度の高いトリメトキシシランや、極性溶媒にも溶解するヘキサメチルジシロキサンやオクタメチルシクロテトラシロキサンを採用すればよい。

請求項（抜粋）：

有機金属化合物と、シロキサン化合物と、前記有機金属化合物およびシロキサン化合物を溶解させるための有機溶媒とを含む化学気相成長法用液体原料。

IPC (3件)：

C23C 16/40 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316

FI (3件)：

C23C 16/40 ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/316 X

Fターム (25件)：

4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA02 ,  4K030BA10 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA22 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030LA15 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045BB03 ,  5F045BB15 ,  5F045DC63 ,  5F045DP03 ,  5F045EE02 ,  5F045HA16 ,  5F058BA11 ,  5F058BC02 ,  5F058BF02 ,  5F058BG02