特許
J-GLOBAL ID:200903079550309859

水素の製造法および水素製造システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-100688
公開番号(公開出願番号):特開2005-281103
出願日: 2004年03月30日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】主としてシクロヘキサン環を有する炭化水素からなる原料油の脱水素反応による水素製造方法における分離、低温化、水素回収率の向上などの問題点を解決し、効率よく水素を製造する水素製造方法及び水素製造システムを提供すること。【解決手段】脱水素触媒および水素分離膜を備えた流通式反応系内で炭化水素を脱水素反応させながら、生成した水素を該水素分離膜により連続的に透過分離し、得られた水素流の少なくとも一部を水素吸蔵合金に吸蔵させて、該水素分離膜の水素透過側の圧力を非透過側の圧力よりも低くすることによる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
脱水素触媒および水素分離膜を備えた流通式反応系内で炭化水素を脱水素反応させながら、生成した水素を該水素分離膜により連続的に透過分離し、得られた水素流の少なくとも一部を水素吸蔵合金に吸蔵させて、該水素分離膜の水素透過側の圧力を非透過側の圧力よりも低くすることを特徴とする水素の製造方法。
IPC (3件):
C01B3/26 ,  B01D53/22 ,  B01D71/02
FI (3件):
C01B3/26 ,  B01D53/22 ,  B01D71/02 500
Fターム (12件):
4D006GA41 ,  4D006KA12 ,  4D006KA67 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006PA04 ,  4D006PB20 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  4G140DC03
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
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