特許

J-GLOBAL ID：200903084340427020

光触媒から発生する活性酸素の除去方法および除去フィルター

発明者： 渡部 俊也 ,  橋本 和仁 ,  藤嶋 昭 ,  砂田 香矢乃 ,  石橋 賢一
出願人/特許権者： 渡部 俊也 ,  財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 清水 初志 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-170152
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000427
出願日： 1998年06月17日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】 光触媒利用製品の活性酸素生成が実際に問題になるかどうかについての検証実験の結果に基づき、活性酸素の対策を蓋然性をもって提供することを課題とする。また、酸化チタン光触媒に光照射して発生する活性酸素が、ヒドロキシラジカル等きわめて反応性が高く有機物を分解させる以外に適切な消去方法がない活性酸素と、比較的寿命が長いスーパーオキシド等の活性酸素が混合して発生する場合に対して、効率的な活性酸素除去方法を考案することを課題とする。【解決手段】 光触媒から発生する複数の活性酸素を効率よく除去する目的で、光触媒付近から発生しうる活性酸素を含む空気や水などの媒体を、活性酸素消去剤を含有したフィルター等の流通層を設けてこの中を通過させることにより、活性酸素を除去することを考案した。

請求項（抜粋）：

活性酸素消去剤を含む流通層中に、紫外線照射下の光触媒から発生する活性酸素を含む媒体を通過させることによって、活性酸素を消去する、媒体中の活性酸素の除去方法。

IPC (9件)：

B01D 53/46 ,  A62B 3/00 ZAB ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 101

FI (9件)：

B01D 53/34 120 A ,  A62B 3/00 ZAB ,  B01D 53/04 A ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 T ,  C02F 1/72 101 ,  B01D 53/36 J