特許
J-GLOBAL ID:200903086454693466
金属修飾アパタイト及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (4件):
石田 敬
, 吉田 維夫
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-070805
公開番号(公開出願番号):特開2005-200302
出願日: 2005年03月14日
公開日(公表日): 2005年07月28日
要約:
【課題】 アパタイトの触媒機能をさらに発展させて新規な光触媒機能を発現させるとともに、アパタイトの優れた吸着特性を長期間にわたって維持することができるアパタイトを提供すること。【解決手段】 アパタイトを、共沈法によって形成されたものであり、かつ光触媒作用を有する金属酸化物がアパタイト結晶構造中にイオン交換によって形成されているように構成する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
共沈法によって形成されたものであり、かつ光触媒作用を有する金属酸化物がアパタイト結晶構造中にイオン交換によって形成されていることを特徴とする金属修飾アパタイト。
IPC (3件):
C01B25/45
, B01J27/18
, B01J35/02
FI (3件):
C01B25/45 H
, B01J27/18 M
, B01J35/02 J
Fターム (21件):
4G169AA02
, 4G169BA48A
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB05A
, 4G169BB05B
, 4G169BB14A
, 4G169BB14B
, 4G169BC09A
, 4G169BC09B
, 4G169BC50A
, 4G169BC50B
, 4G169EC25
, 4G169EC27
, 4G169HA01
, 4G169HB01
, 4G169HB10
, 4G169HC02
, 4G169HC08
, 4G169HD03
, 4G169HE01
引用特許:
出願人引用 (3件)
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リン酸塩系抗菌剤およびその製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-350449
出願人:日本化学工業株式会社, 株式会社サンギ
-
抗菌性フィルター
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-191044
出願人:積水化成品工業株式会社
-
環境浄化材料及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-063867
出願人:工業技術院長, ジェイ・エム・イー株式会社, 垰田博史, 野浪亨
審査官引用 (6件)
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紫外線吸収剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-205543
出願人:日本化学工業株式会社
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防錆顔料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-216488
出願人:日本化学工業株式会社
-
リン酸カルシウム系複合材及び同材の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-309524
出願人:株式会社アドバンス
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