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J-GLOBAL ID：201002234781049470   整理番号：10A1102298

Xe₂エキシマUV光によるレジスト除去

著者 (6件)： 河野昭彦 (金沢工大) ,  後藤洋介 (金沢工大) ,  丸岡岳志 (金沢工大) ,  安形行広 (金沢工大) ,  堀邊英夫 (金沢工大) ,  水谷文一 (三菱化学)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 71st  ページ： ROMBUNNO.14P-ZA-5  発行年： 2010年08月30日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レジスト ,  *紫外線照射 ,  *剥離 ,  エキシマレーザ ,  キセノン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： エキシマ ,  UV光 ,  レジスト