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J-GLOBAL ID：201002266821449114   整理番号：10A0466135

Cd粉末とH₂Oを原料に用いた大気圧CVD法によるCdOナノロッドの作製(II)

著者 (5件)： 寺迫智昭 (愛媛大 大学院) ,  藤原哲郎 (愛媛大 工) ,  宮田晃 (愛媛大 工) ,  矢木正和 (香川高専) ,  白方祥 (愛媛大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19P-TM-9  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化カドミウム ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *ナノロッド ,  ナノ構造 ,  基板 ,  金 ,  被覆 ,  走査電子顕微鏡 ,  *ナノベルト ,  サファイア基板 ,  流量比
準シソーラス用語： 大気圧CVD

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (9件)： Cd ,  粉末 ,  H2O ,  原料 ,  大気圧 ,  CVD法 ,  CdO ,  ナノロッド ,  作製