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J-GLOBAL ID：201002270227248734   整理番号：10A0463472

ハーフメタル酸化物Sr₂FeMoO₆薄膜のコンビナトリアル手法による合成と評価

著者 (3件)： 門田祥悟 (東京工大 応用セラミックス研) ,  松本祐司 (東京工大 応用セラミックス研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19P-TQ-4  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *強磁性体 ,  鉄化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  モリブデン化合物 ,  酸化物 ,  *薄膜成長 ,  レーザ蒸着 ,  *電気抵抗率 ,  電子顕微鏡観察 ,  磁性薄膜 ,  パルスレーザ蒸着 ,  *完全スピン偏極強磁性体
準シソーラス用語： *ハーフメタル

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (4件)： メタル酸化物 ,  薄膜 ,  コンビナトリアル手法 ,  評価